激光技术获重大突破网络速度有望翻倍提升

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加利福尼亚大学与英特尔公司日前展开合作，共同研究芯片级激光技术。据研究人员称，这种技术可以提高网络传输速度并降低网络建设成本。

这项技术的突破性意义在于利用标准的硅生产工艺生产激光。

这项技术利用了基于磷化铟的光辐射性和硅的光导性。实验证明用这种方法得到的激光可以用来生产高端网络设备，但是目前研究人员还没有找到合适的方法将这种技术推广到数据中心的电脑和网络设备的生产中去。据研究人员称，如果这种技术得到成功推广应用的话，数据中心的网络速度将从10G跳增2到3倍以上。

英特尔光子技术实验室主任马里奥帕尼西亚说：“这样就有可能研制出未来计算机可用的低成本、万亿次级光数据管线，并开创高性能计算应用的新纪元。虽然这种技术距离商业化生产还有一段不短的距离，但是我们相信数十种甚至上百种混合硅激光一定可以整合到单硅芯片上的其他硅元件中。”

全球许多实验室都在进行下一代芯片的开发计划。例如，英国的研究人员就发现可以利用紫外线来代替熔炉生产电脑芯片中使用的二氧化硅绝缘层，这项技术突破可以为芯片厂商节约大量的能源并降低芯片产品的成本和价格。

责任编辑：EASUN
文章来源：PCICP.COM 2006-09-21

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激光技术获重大突破 网络速度有望翻倍提升